Produktbild: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
- 12%

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

12% sparen

46,99 € UVP 53,49 €

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei


Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

20.11.2013

Abbildungen

139 p.

Verlag

Springer Basel

Seitenzahl

139

Maße (L/B/H)

22,9/15,2/0,8 cm

Gewicht

215 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-0348-7743-5

Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

20.11.2013

Abbildungen

139 p.

Verlag

Springer Basel

Seitenzahl

139

Maße (L/B/H)

22,9/15,2/0,8 cm

Gewicht

215 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-0348-7743-5

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

Email: ProductSafety@springernature.com

Ein neues Kapitel für Ihre Bücher

Ein neues Kapitel für Ihre Bücher

Schenken Sie Ihren alten Schätzen ein zweites Leben und erhalten dafür eine Thalia Geschenkkarte.

Jetzt verkaufen
Jetzt verkaufen

Noch keine Bewertungen vorhanden

Verfassen Sie die erste Bewertung zu diesem Artikel

Helfen Sie anderen Kundinnen und Kunden durch Ihre Meinung.

Kundinnen und Kunden meinen

Bewertungen (0)

  • Produktbild: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
  • Principal Symbols.- 1 Introduction.- 2 Mathematical models for chemical vapor deposition.- 3 Thermal modeling.- 4 Blanket tungsten deposition.- 5 Selective tungsten deposition.- 6 Conclusions.