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  • Produktbild: Pulsed and Pulsed Bias Sputtering
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Pulsed and Pulsed Bias Sputtering Principles and Applications

106,99 €

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei


Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

30.09.2003

Abbildungen

XI, 157 p. 27 illus.

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

157

Maße (L/B/H)

24,1/16/1,5 cm

Gewicht

390 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4020-7543-8

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Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

30.09.2003

Abbildungen

XI, 157 p. 27 illus.

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

157

Maße (L/B/H)

24,1/16/1,5 cm

Gewicht

390 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4020-7543-8

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Europaplatz 3
69115 Heidelberg
DE

Email: ProductSafety@springernature.com

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  • 1 Introduction.- 2 Basic Plasma Phenomenon.- 3 Plasma Sources Used for Sputter Deposition.- 4 Response of a Plasma to an Applied Bias.- 5 Sinusoidal Waveform.- 6 Pulsed Waveform.- 7 Application Of A Pulsed Waveform to a Target: Pulsed Reactive Sputtering.- 8 Application of a Pulsed Waveform to a Substrate: Pulsed Bias Sputtering.- 9 Conclusions and Future Directions.- References.