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Science and Technology of Defects in Silicon

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This volume reviews recent developments in the materials science of silicon. The topics discussed range from the fundamental characterization of the physical properties to the assessment of materials for device applications, and include: crystal growth; process-induced defects; topography; hydrogenation...

Beschreibung

This volume reviews recent developments in the materials science of silicon. The topics discussed range from the fundamental characterization of the physical properties to the assessment of materials for device applications, and include: crystal growth; process-induced defects; topography; hydrogenation of silicon; impurities; and complexes and interactions between impurities.In view of its key position within the conference scope, several papers examine process induced defects: defects due to ion implantation, silicidation and dry etching, with emphasis being placed on the device aspects. Special attention is also paid to recent developments in characterization techniques on epitaxially grown silicon, and silicon-on-insulators.

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Erscheinungsdatum

01.01.2014
Herausgeber
Verlag Elsevier Science & Techn.
Seitenzahl

518 (Printausgabe)
Sprache

Englisch
EAN

9780080983646
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